Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 36 (2018): Zeszyt 1 (March 2018)
Otwarty dostęp
Effect of pulsed magnetron sputtering process for the deposition of thin layers of nickel and nickel oxide
Witold Posadowski
Witold Posadowski
,
Artur Wiatrowski
Artur Wiatrowski
oraz
Grzegorz Kapka
Grzegorz Kapka
| 18 maj 2018
Materials Science-Poland
Tom 36 (2018): Zeszyt 1 (March 2018)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
18 maj 2018
Zakres stron:
69 - 74
Otrzymano:
24 mar 2017
Przyjęty:
11 paź 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2017-0092
Słowa kluczowe
pulsed magnetron sputtering
,
thin film
,
deposition
,
nickel
,
nickel oxide
© 2018
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.