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Materials Science-Poland
Band 36 (2018): Heft 1 (March 2018)
Uneingeschränkter Zugang
Effect of pulsed magnetron sputtering process for the deposition of thin layers of nickel and nickel oxide
Witold Posadowski
Witold Posadowski
,
Artur Wiatrowski
Artur Wiatrowski
und
Grzegorz Kapka
Grzegorz Kapka
| 18. Mai 2018
Materials Science-Poland
Band 36 (2018): Heft 1 (March 2018)
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Online veröffentlicht:
18. Mai 2018
Seitenbereich:
69 - 74
Eingereicht:
24. März 2017
Akzeptiert:
11. Okt. 2017
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2017-0092
Schlüsselwörter
pulsed magnetron sputtering
,
thin film
,
deposition
,
nickel
,
nickel oxide
© 2018
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.