Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 32 (2014): Zeszyt 2 (June 2014)
Otwarty dostęp
Optimization of gas injection conditions during deposition of AlN layers by novel reactive GIMS method
Krzysztof Zdunek
Krzysztof Zdunek
,
Katarzyna Nowakowska-Langier
Katarzyna Nowakowska-Langier
,
Rafal Chodun
Rafal Chodun
,
Jerzy Dora
Jerzy Dora
,
Sebastian Okrasa
Sebastian Okrasa
oraz
Ewa Talik
Ewa Talik
| 22 lip 2014
Materials Science-Poland
Tom 32 (2014): Zeszyt 2 (June 2014)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
22 lip 2014
Zakres stron:
171 - 175
DOI:
https://doi.org/10.2478/s13536-013-0169-6
Słowa kluczowe
plasma surface engineering
,
magnetron sputtering
,
aluminum nitride deposition
© 2013 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.