Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 34 (2016): Zeszyt 2 (June 2016)
Otwarty dostęp
Compositional analysis of silicon oxide/silicon nitride thin films
Samir Meziani
Samir Meziani
,
Abderrahmane Moussi
Abderrahmane Moussi
,
Linda Mahiou
Linda Mahiou
oraz
Ratiba Outemzabet
Ratiba Outemzabet
| 10 cze 2016
Materials Science-Poland
Tom 34 (2016): Zeszyt 2 (June 2016)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Artykuł
Ilustracje i tabele
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Article Category:
Research Article
Data publikacji:
10 cze 2016
Zakres stron:
315 - 321
Otrzymano:
23 cze 2015
Przyjęty:
28 kwi 2016
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2016-0057
© Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
Fig. 1
Depth profiles of Si, O, N and H in an ON structure annealed at 700 °C.
Fig. 2
SIMS depth distribution of oxygen concentration for samples annealed at different temperatures.
Fig. 3
SIMS depth distributions of Si/N ratio on ON structure for as-deposited and annealed at: 500 °C, 700 °C, 900 °C and 1000 °C.
Fig. 4
SIMS depth distributions of O/N ratio for as deposited and annealed films at temperatures 500 °C, 700 °C, 900 °C and 1000 °C.
Fig. 5
Typical RBS spectrum of ON structure recorded with He+2 ions at 2 MeV. Simulation by SIMNRA is given for comparison. Chemical symbol arrows are given to show the signal of each element located at the film surface.
Fig. 6
First derivative AES survey spectrum of oxide/nitride film obtained after dry oxidation of SiNx and annealed at 700 °C during 30 min.
Fig. 7
The EDX spectrum of a typical oxide/nitride film with similar amounts of nitrogen and oxygen. Electron beam energy: 5 keV and the detection take-off angle 35°.
Fig. 8
Correlation between O/Si and N/Si with annealing temperature determined by EDX in oxide/nitride film oxidized at 950 °C during 3 hours. The SiNx films were deposited by PECVD with R = 6.