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Materials Science-Poland
Volume 38 (2020): Numero 1 (March 2020)
Accesso libero
Micro-structural and bonding structure analysis of TiAlN thin films deposited with varying N
2
flow rate via ion beam sputtering technique
Soham Das
Soham Das
,
Mukul Gupta
Mukul Gupta
,
Ashis Sharma
Ashis Sharma
e
Bibhu P. Swain
Bibhu P. Swain
| 08 mag 2020
Materials Science-Poland
Volume 38 (2020): Numero 1 (March 2020)
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Pubblicato online:
08 mag 2020
Pagine:
122 - 131
Ricevuto:
13 ott 2018
Accettato:
23 apr 2019
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2020-0006
Parole chiave
TiAlN
,
GIXRD
,
FE-SEM
,
XANES
© 2020 Soham Das et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Soham Das
Department of Mechanical Engineering, Sikkim Manipal Institute of Technology Sikkim Manipal University
Rangpo, India
Mukul Gupta
UGC-DAE Consortium for Scientific Research University Campus
Indore, India
Ashis Sharma
Department of Mechanical Engineering, Sikkim Manipal Institute of Technology Sikkim Manipal University
Rangpo, India
Bibhu P. Swain
Department of Physics, National Institute of Technology
India