Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Materials Science-Poland
Tom 37 (2019): Zeszyt 3 (September 2019)
Otwarty dostęp
SiN/SiO
2
passivation stack of n-type silicon surface
A. El Amrani
A. El Amrani
,
R. Si-Kaddour
R. Si-Kaddour
,
M. Maoudj
M. Maoudj
oraz
C. Nasraoui
C. Nasraoui
| 18 paź 2019
Materials Science-Poland
Tom 37 (2019): Zeszyt 3 (September 2019)
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
18 paź 2019
Zakres stron:
482 - 487
Otrzymano:
28 paź 2018
Przyjęty:
23 kwi 2019
DOI:
https://doi.org/10.2478/msp-2019-0065
Słowa kluczowe
silicon
,
passivation
,
silicon nitride
,
oxide
© 2019 A. El Amrani et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.