Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Journal of Electrical Engineering
Tom 70 (2019): Zeszyt 7 (December 2019)
Otwarty dostęp
Structural and optical characterization of Cu doped ZnO thin films deposited by RF magnetron sputtering
Maria Toma
Maria Toma
,
Nicolae Ursulean
Nicolae Ursulean
,
Daniel Marconi
Daniel Marconi
oraz
Aurel Pop
Aurel Pop
| 28 wrz 2019
Journal of Electrical Engineering
Tom 70 (2019): Zeszyt 7 (December 2019)
Special Issue
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
28 wrz 2019
Zakres stron:
127 - 131
Otrzymano:
19 mar 2019
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2019-0054
Słowa kluczowe
Cu doped ZnO
,
thin films
,
RF magnetron sputtering
,
XRD
,
optical properties
© 2019 Maria Toma et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.