Logowanie
Zarejestruj się
Zresetuj hasło
Publikuj i Dystrybuuj
Rozwiązania Wydawnicze
Rozwiązania Dystrybucyjne
Dziedziny
Architektura i projektowanie
Bibliotekoznawstwo i bibliologia
Biznes i ekonomia
Chemia
Chemia przemysłowa
Filozofia
Fizyka
Historia
Informatyka
Inżynieria
Inżynieria materiałowa
Językoznawstwo i semiotyka
Kulturoznawstwo
Literatura
Matematyka
Medycyna
Muzyka
Nauki farmaceutyczne
Nauki klasyczne i starożytne studia bliskowschodnie
Nauki o Ziemi
Nauki o organizmach żywych
Nauki społeczne
Prawo
Sport i rekreacja
Studia judaistyczne
Sztuka
Teologia i religia
Zagadnienia ogólne
Publikacje
Czasopisma
Książki
Materiały konferencyjne
Wydawcy
Blog
Kontakt
Wyszukiwanie
EUR
USD
GBP
Polski
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Koszyk
Home
Czasopisma
Journal of Electrical Engineering
Tom 70 (2019): Zeszyt 7 (December 2019)
Otwarty dostęp
On KCN treatment effects on optical properties of Si-based bilayers
Jarmila Müllerová
Jarmila Müllerová
,
Emil Pinčík
Emil Pinčík
,
Martin Králik
Martin Králik
,
Michaela Holá
Michaela Holá
,
Masao Takahashi
Masao Takahashi
oraz
Hikaru Kobayashi
Hikaru Kobayashi
| 28 wrz 2019
Journal of Electrical Engineering
Tom 70 (2019): Zeszyt 7 (December 2019)
Special Issue
O artykule
Poprzedni artykuł
Następny artykuł
Abstrakt
Referencje
Autorzy
Artykuły w tym zeszycie
Podgląd
PDF
Zacytuj
Udostępnij
Data publikacji:
28 wrz 2019
Zakres stron:
77 - 82
Otrzymano:
19 mar 2019
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2019-0045
Słowa kluczowe
KCN treatment
,
effective thin film
,
bilayers
,
silicon
,
refractive index
,
optical band gap
© 2019 Jarmila Müllerová et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.
Jarmila Müllerová
Institute of Aurel Stodola, Faculty of Electrical Engineering and Information Technology, University of Žilina
Liptovský Mikuláš, Slovakia
Emil Pinčík
Institute of Physics, Slovak Academy of Sciences
Bratislava, Slovakia
Martin Králik
Institute of Aurel Stodola, Faculty of Electrical Engineering and Information Technology, University of Žilina
Liptovský Mikuláš, Slovakia
Michaela Holá
Institute of Aurel Stodola, Faculty of Electrical Engineering and Information Technology, University of Žilina
Liptovský Mikuláš, Slovakia
Masao Takahashi
Institute of Scientific, Industrial Research of Osaka University
Osaka, Japan
Tokyo University of Technology,
Tokyo, Japan
Hikaru Kobayashi
Institute of Scientific, Industrial Research of Osaka University
Osaka, Japan