Login
Registrati
Reimposta password
Pubblica & Distribuisci
Soluzioni Editoriali
Soluzioni di Distribuzione
Temi
Architettura e design
Arti
Business e Economia
Chimica
Chimica industriale
Farmacia
Filosofia
Fisica
Geoscienze
Ingegneria
Interesse generale
Legge
Letteratura
Linguistica e semiotica
Matematica
Medicina
Musica
Scienze bibliotecarie e dell'informazione, studi library
Scienze dei materiali
Scienze della vita
Scienze informatiche
Scienze sociali
Sport e tempo libero
Storia
Studi classici e del Vicino Oriente antico
Studi culturali
Studi ebraici
Teologia e religione
Pubblicazioni
Riviste
Libri
Atti
Editori
Blog
Contatti
Cerca
EUR
USD
GBP
Italiano
English
Deutsch
Polski
Español
Français
Italiano
Carrello
Home
Riviste
Journal of Electrical Engineering
Volume 70 (2019): Numero 7 (December 2019)
Accesso libero
On KCN treatment effects on optical properties of Si-based bilayers
Jarmila Müllerová
Jarmila Müllerová
,
Emil Pinčík
Emil Pinčík
,
Martin Králik
Martin Králik
,
Michaela Holá
Michaela Holá
,
Masao Takahashi
Masao Takahashi
e
Hikaru Kobayashi
Hikaru Kobayashi
| 28 set 2019
Journal of Electrical Engineering
Volume 70 (2019): Numero 7 (December 2019)
Special Issue
INFORMAZIONI SU QUESTO ARTICOLO
Articolo precedente
Articolo Successivo
Sommario
Bibliografia
Autori
Articoli in questo Numero
Anteprima
PDF
Cita
CONDIVIDI
Pubblicato online:
28 set 2019
Pagine:
77 - 82
Ricevuto:
19 mar 2019
DOI:
https://doi.org/10.2478/jee-2019-0045
Parole chiave
KCN treatment
,
effective thin film
,
bilayers
,
silicon
,
refractive index
,
optical band gap
© 2019 Jarmila Müllerová et al., published by Sciendo
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 License.