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Materials Science-Poland
Volumen 32 (2014): Edición 3 (September 2014)
Acceso abierto
Investigation of structural, optical and electrical properties of (Ti,Nb)Ox thin films deposited by high energy reactive magnetron sputtering
Michal Mazur
Michal Mazur
,
Danuta Kaczmarek
Danuta Kaczmarek
,
Eugeniusz Prociow
Eugeniusz Prociow
,
Jaroslaw Domaradzki
Jaroslaw Domaradzki
,
Damian Wojcieszak
Damian Wojcieszak
y
Jakub Bocheński
Jakub Bocheński
| 17 oct 2014
Materials Science-Poland
Volumen 32 (2014): Edición 3 (September 2014)
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Publicado en línea:
17 oct 2014
Páginas:
457 - 464
DOI:
https://doi.org/10.2478/s13536-013-0195-4
Palabras clave
(Ti,Nb)Ox thin films
,
transparent oxide semiconductor
,
p-type electrical conduction
,
niobium doped titanium dioxide
,
transparent electronics
© 2014 Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.