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Materials Science-Poland
Band 34 (2016): Heft 4 (December 2016)
Uneingeschränkter Zugang
Investigation of optical properties of silicon oxynitride films deposited by RF PECVD method
Wojciech Kijaszek
Wojciech Kijaszek
,
Waldemar Oleszkiewicz
Waldemar Oleszkiewicz
,
Adrian Zakrzewski
Adrian Zakrzewski
,
Sergiusz Patela
Sergiusz Patela
und
Marek Tłaczała
Marek Tłaczała
| 27. Nov. 2016
Materials Science-Poland
Band 34 (2016): Heft 4 (December 2016)
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Online veröffentlicht:
27. Nov. 2016
Seitenbereich:
868 - 871
Eingereicht:
20. Apr. 2016
Akzeptiert:
26. Sept. 2016
DOI:
https://doi.org/10.1515/msp-2016-0111
Schlüsselwörter
silicon oxynitride
,
RF PECVD
,
spectroscopic ellipsometry
,
reflection coefficient
© Wroclaw University of Technology
This work is licensed under the Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 3.0 License.
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